熟悉等離子光氧一體機(jī)

 

 

 

等離子光氧一體機(jī)采用紫外光催化氧技術(shù)對(duì)有機(jī)廢氣和惡臭氣體進(jìn)行有效的催化氧化降解，降解成低分子化合物，如CO2、H2O等。除臭主要用于惡臭氣體和工業(yè)廢氣的處理。適用于飼料廠惡臭氣體、制藥廠有機(jī)廢氣、污水處理廠惡臭氣體、化工廠有機(jī)氣體的處理。

 

 

 

產(chǎn)品技術(shù):

,該產(chǎn)品***別高的能量高臭氧紫外線紫外線光束,惡臭,開裂有氣味的氣體如氨、三甲胺、硫化氫,硫化氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳、苯乙烯,硫化H2S,揮發(fā)性有機(jī)化合物,分子鏈結(jié)構(gòu)的苯、甲苯、二甲苯、有機(jī)或無機(jī)聚合物有氣味的化合物分子鏈,在高能束暴露于太陽的紫外線,降解為低分子化合物，如CO2、H2O等。

 

 

 

***二，利用高能高臭氧UV紫外線分解空氣中的氧分子來產(chǎn)生游離氧，即活性氧，游離氧由于氧分子所攜帶的正負(fù)電子的平衡，所以需要與氧氣結(jié)合，然后產(chǎn)生臭氧。UV+O2 O - O *(活性氧)O O2 O3(臭氧)，眾所周知，臭氧對(duì)有機(jī)物有很強(qiáng)的氧化作用，對(duì)惡臭氣體和其他刺激性氣味有直接的去除作用。

三世。惡臭氣體輸入后的凈化設(shè)備排氣設(shè)備,凈化設(shè)備使用高能束UV紫外線和臭氧進(jìn)行協(xié)同分解和氧化反應(yīng)有氣味的氣體,所以有氣味的氣體物質(zhì)降解成低分子化合物,水和二氧化碳,然后通過排氣管排出。***四，利用高能紫外線束破壞惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸(DNA)，通過臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，完全達(dá)到除臭殺菌的目的。

 

 

四、等離子光氧一體機(jī)產(chǎn)品性能概述

1. 除臭:去除揮發(fā)性有機(jī)化合物(VOC)、無機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇等主要污染物及各種惡臭，除臭效率達(dá)99%以上。除臭效果******超過1993年頒布的***家惡臭排放標(biāo)準(zhǔn)(gb14554-93)。

2. 不需要添加任何物質(zhì):只需要設(shè)置相應(yīng)的排氣管道和排氣功率即可通過設(shè)備對(duì)惡臭氣體進(jìn)行除臭、分解和凈化，不需要添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。

 

 

 

3.適應(yīng)能力強(qiáng):可適應(yīng)不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，濃度高，風(fēng)量***，可24小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。

4. 運(yùn)行成本低:設(shè)備無機(jī)械動(dòng)作，無噪音，無需專人管理和日常維護(hù)，只需定期檢查。該設(shè)備能耗低(每處理1000立方米/小時(shí)耗電量約0.2度)。

5、無預(yù)處理:fetor無***殊預(yù)處理，如加熱、加濕，設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏- 30℃至95℃之間，濕度在30%至98%之間，PH值在3-11之間均可正常工作。